薄膜电阻基体的处置

    用作薄膜电阻器的基体起首须经干净处置，然后再依据导电膜层的品种、或膜层制造工艺的差别,对基体举行须要的外表处置，如抛光处置和粗化处置等。

一、基体的干净处置

    电阻膜层与电阻基体间是使用由物理吸附构成的联合力而附着的，从有关两相间物理吸附的要素可见:两相间没有毁坏这种附着的第三相是须要条件之一。为此，在成膜前必需颠末洗濯，以撤除基体外表的灰尘、杂质和油污等。

     基体外表干净处置的办法有多种，常用的是置电阻基体于六角形滚筒中，在不低了60C的热水中滚洗约半小时(如欲减速该历程，可把热水改为在4.7节中介绍过的脱污视后,通以活动的自来水冲洗并用蒸馏水漂洗两次，再在蒸馏水中沸煮1015min后用蒸馏水漂洗并经离心枯燥机枯燥,以免在基体外表留有水迹。

二、基体的抛光

      未经抛光的电 阻基体的外表光亮度差，四凸水平在201om左右。关于膜厚为微米级的导电薄膜外表高低形态将招致导电膜厚不匀称，  致影响膜层的一连性而招致膜层功能变杯。以是，要接纳化学的或物理的办法(乃至两者的联合)对用作薄膜电用的基体举行外表抛光。

      (1)机器抛光处置使用水 与基体抛光剂与基体基体与基体同的磨擦作用，使基体的外表形态变得平整平滑。其改进水平取决于磨料的选择;基体水、抛光剂的配比;装载量和抛光工夫。机器抛光通常是使用球磨简在转动式球磨机上完成。抛光工夫过永劫，会惹起基体尺寸的变小。

      (2)化学抛光处置通 常是使用搅动在弱酸中浸泡着的基体来完成。酸洗液是由氢氟酸与水配制而成，溶液的浓度依据基体实用的阻值范畴而定，浓渡过高会形成新的高低形态变革。以是，必需严厉控制工艺要素以确保在该基体上制成的膜层的一连性和膜层与基体外表有精良的打仗，以包管导电膜层的电功能。经化学抛光处置的基体也须经水冲洗并离心枯燥后备用。

      (3)低温抛光处置选择 较为符合的加热温度(800 ~ 1200C)对基体举行低温处置,使基体外表的玻璃成熔融态,以在冷却历程中构成高光亮度的玻璃相外表层,从而进步基体外表的光亮度和与导电膜有精良的附着。这种办法对高阻值高波动的薄膜电阻基体尤为须要。该工艺除了要选择符合的处置温度外,还应+分注意对保温工夫降温速率等工艺要素的严厉监控。

三、基体外表的粗化

      为了使电阻基体与较厚的导电膜层有精良的附着,除了经过外表干净处置使外表干净外要只管即便增长膜层与基体外表间的无效打仗面积，以是常要经过粗化工艺使基体外表构成纳匀的粗形态，其要求是经过租化而成的基体外表四陷部位的横向尺寸要大于其在深度偏向的尺寸。